Optimierung & numerische Methoden im optischen Systemdesign
Wir suchen eine Person, die sich für Herausforderungen begeistert und bereit ist, komplexe Probleme zu lösen.
Als Experte in der Optimierung und numerischen Methoden sind Sie verantwortlich für die Auslegung von Lithographie-Optiken. Mit Ihrer Fähigkeit zur mathematischen Modellierung durchführen Sie Simulationen und Bewertungen der physikalisch-optischen Eigenschaften von Lithographie-Objektiven.
Unser Ziel ist es, innovative Optimierungs- und Simulationsmethoden zu analysieren und zu erweitern. Wir bieten Ihnen eine spannende Aufgabe in einem interdisziplinären Teamumfeld an.
Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten zusammen, um gemeinsam Wissenschaft und Gesellschaft voranzubringen.
* Entwickeln und verbessern Sie mathematische Modelle zur Beschreibung von Lithographie-Prozessen
* Führen Sie Simulationen und Analysen durch, um die Leistung von Lithographie-Optiken zu verbessern
* Arbeiten Sie eng mit anderen Experten zusammen, um neue Technologien zu entwickeln
Wir freuen uns auf Ihre Bewerbung!