Aufgaben
* Analyse des gegenwärtigen Patern Plating Prozesses und Ableiten von Optimierungsmaßnahmen in Bezug auf die Photoresistprozessierung
* Evaluierung des Photoresist Dunkelabtrages vor- und nach Pattern Plating
* Einlageversuche verschiedener Photoresist Vorbehandlungen und entsprechende Analysen
* Kommunikation und enge Zusammenarbeit mit internen und externen Partnern
* Unterstützung bei der Prozessintegration in die Leiterplattenfertigung
Qualifikationen
* Abgeschlossenes Bachelorstudium Mikrosystemtechnik, Nanotechnologie, Sensorik & Analytik, Chemie oder vergleichbar
* Sehr gute Kenntnisse in analytischen Methoden (wie z.B. HPLC, AAS) wünschenswert
* Methodische und strukturierte Vorgehensweise
* Selbstständige Arbeitsweise
* Gute Teamfähigkeit
Interessiert?
Dann bewerben Sie sich bitte vorzugsweise online bei Rohde & Schwarz GmbH & Co. KG, Frau Elisa Doppelhammer. Fragen beantwortet Ihnen unser Recruitingteam gerne unter: +49 9923 85 72108.
Wir fördern Chancengleichheit und begrüßen Bewerbungen von Menschen mit und ohne Behinderung. Wir bieten eine inklusive Arbeitsumgebung, in der alle Menschen ihre Fähigkeiten und Talente entfalten können, unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Alter, sexueller Orientierung, Identität und anderen Merkmalen.