Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung: Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit. Sie möchten den Motor der Digitalisierung in einem interdisziplinären Umfeld mitgestalten? In der Gruppe Commissioning & Performance Assurance EUV High NA im Bereich Surface Figure Metrology der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology gestalten wir gemeinsam die Zukunft der Halbleiterlithografie mit Messprozessen und Konzepten für die hochgenaue Bestimmung der Oberflächenform unserer EUV-Optiken. Sie leiten Projekte in diesem Aufgabengebiet ein sehr gut abgeschlossenes wissenschaftliches oder technisches Studium (Physik, Maschinenbau, technische Optik), vorzugsweise mit Promotion gute Kenntnisse in technischer Optik oder optischer Messtechnik sind vorteilhaft Erfahrung in der datenbasierten Analyse komplexer Systeme ein hohes Maß an Teamfähigkeit, Eigenmotivation und Engagement gute Programmierkenntnisse, vorzugsweise in MATLAB oder Python Kenntnisse oder Erfahrungen in GenAI von Vorteil Erfahrungen im Projektmanagement wünschenswert fließende Deutsch- und Englischkenntnisse